联系我们 - 广告服务 - 联系电话:
您的当前位置: > 科技 > > 正文

全新半导体材料被发现:内存、闪存迎来革命

来源:快科技 时间:2020-07-08 17:02:23

三星电子宣布,三星先进技术研究院(SAIT)联合蔚山国家科学技术院(UNIST)、英国剑桥大学,发现了一种全新的半导体材料“无定形氮化硼”(amorphous boron nitride),简称a-BN,有望推动下一代半导体芯片的加速发展。

近些年,三星SAIT围绕只有一层原子厚度的2D材料展开了集中攻关,尤其是围绕石墨烯取得了多项突破,包括石墨烯势垒三极管、新的石墨烯晶体管、大面积单晶体晶圆级石墨烯制造新法等等,并在加速它们的商业化。

三星发现全新半导体材料:内存、闪存迎来革命

无定形氮化硼拥有无固定形状的分子结构,内部包含硼原子、氮原子。它源自白石墨烯,后者也有硼原子、氮原子,不过是六边形结构,无定形氮化硼则与之截然不同。

三星表示,无定形氮化硼的介电常数非常之低,只有区区1.78,同时又有很强的电气和力学属性,作为一种互连隔绝材料可以大大减少电子干扰,而且只需400℃的超低温度,就能成长到晶圆级别尺寸。

三星认为,无定形氮化硼有望广泛应用于DRAM内存、NAND闪存的制造,特别适合下一代大规模服务器存储解决方案。

 

责任编辑:

标签: 半导体材料 闪存 内存

精彩放送:

新闻聚焦

关于我们 | 联系我们 | 投稿合作 | 法律声明 | 广告投放

版权所有©2017-2020   太阳信息网京ICP备2021034106号-55

所载文章、数据仅供参考,使用前务请仔细阅读网站声明。本站不作任何非法律允许范围内服务!

联系我们:55 16 53 8 @qq.com

Top